山形富士通、富士通研究所、神奈川科学技術アカデミーの3者は、1平方インチあたり1テラビットの記憶容量を持つ次世代ハードディスク（HDD）「パターンドメディア」の技術開発成果として、酸化アルミニウム膜上のナノメートルサイズの孔（アルミナナノホール）に充填した各磁性体に情報を記録・再生することに世界で初めて成功した。

　研究グループは、ナノサイズの穴パターンを持った金型と感光性樹脂（フォトレジスト）を使ったリソグラフィ技術によりナノホールを形成する「ナノインプリントリソグラフィ法」により、2.5インチのアルミニウム・ディスクの表面に100nm間隔の凹みパターンを一括形成した。ナノホール内にコバルト磁性体を充填し、既存の磁気ヘッド（再生素子幅100nm）で各ホールの上向き（1）と下向き（0）の磁気信号を観測した。

　今後は、ナノホールの間隔を25nmにして、円周方向に規則配列した記録媒体の製作を目指す。25nm間隔でナノホールを形成したパターンドメディアが実現すると、現行HDD製品の5倍に相当する1平方インチあたり1テラビットの情報を記録できることになる。

　この研究開発は、テラビット級の垂直磁気記録媒体の実現に向けた基礎研究として、科学技術振興機構（JST）の2004年度から3年間の受託研究として行われた。